半导体回路形成用光源紫外线灯13KW

a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软采用较好的技术和材料，我们的紫外线灯具有长寿命、低能耗、高紫外线输出等优点。半导体回路形成用光源紫外线灯13KW

FX-51S/61SFX-801M2003FX-53S/63S2004Yokohama Plant Yokosuka Branch (now Yokosuka Plant) is built.2005FX-71S/81S2007Tochigi Nikon Precision Co., Ltd. is established.FX-803M/903N2008Sendai Nikon Precision Corporation is established.FX-75S/85S, FPD scanner for 7th and 8th generation plate sizes2009Mito Nikon Precision Corporation is merged with Tochigi Nikon Precision Co., Ltd.Sendai Nikon Precision Corporation is merged with Miyagi Nikon Precision Co., Ltd.FX-101S, FPD scanner for 10th generation super-large plate size2010Sales of FPD lithography systems in Chinese market start.2011FX-66SFX-76S/86S2012Yokosuka Plant is completed.FX-67S, FPD scanner achieving resolution of 2 µm2013Building 530 at Yokohama Plant is closed. Construction of Building 502 is completed.Nikon Precision Singapore Pte Ltd is merged with Nikon Singapore Pte. Ltd.FX-86SH2FX-86S22016FX-68S, FPD scanner achieving resolution of 1.5 µm2018FX-103SH/103S, FPD scanner for Generation 10.5 plate size2021FX-6AS, FPD scanner achieving the highest resolution of 1.2 µm准分子紫外线灯UNL-12001半导体紫外线灯，让微小世界尽在掌握。

产品化无NOｘ产生的UV Lamp『智能准分子灯』作为臭氧发生动力（灯+电源）模块.臭氧存在与大气中，起到净化大气作用。大气中的氧气和太阳光中的紫外线反应或者雷的放电现象，自然生成。阳光充裕的海岸或森林，存在程度、制作出清爽的空气。臭氧的氧原子[O]3个结合后产物，化学式是[O3]。臭氧的氧原子比氧气原子多出1个的[O3]状态、余下的氧原子[O]给其它物质，引发返回稳定状态的氧分子现象。利用自然界发生的此性质，积极制作臭氧，进行脱臭，除菌，杀菌。

i线步进式光刻机NSR-SF155适用于半导体器件的制造。性能：Resolution分辨率≦280nm，NA0.62，Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength)，Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield，曝光范围26mm×33mm，Overlay重合精度≦25nm，Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台，实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”，同时晶圆工作台可高速运转，从而大幅度降低了振动，并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路，有利于工作室内的散热。实现了25nm以下的重合精度。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯，对应型号：NLi-7500AL2。专业紫外线灯，为半导体工业提供持久动力。

低压汞灯不需要转化为可见光，253.7nm的波长就能起到很好的杀菌作用，这是因为细胞对光波的吸收谱线有一个规律，在250~270nm的紫外线有比较大的吸收，被吸收的紫外线实际上作用于细胞遗传物质即DNA，它起到一种光化作用，紫外光子的能量被DNA中的碱基对吸收，引起遗传物质发生变异，使细菌当即死亡或不能繁殖后代，达到杀菌的目的。低压汞灯消毒杀菌用途很广，医院、学校、托儿所、电影院、公交车、办公室、家庭等，它能净化空气，消除霉味，此外还能产生一定量的负氧离子，经紫外线消毒的房间，空气特别清新。在公共场合，经紫外线消毒，可避免一些病菌经空气传播或经物体表面传播。长寿命的紫外线杀菌灯在水消毒、环保工程方面的应用意义重大，水消毒设备如纯水系统，一般在24小时都运转，紫外线杀菌灯的寿命和可靠性都要求高，如果灯管寿命短，更换灯管成本高，而且很不方便。我们的紫外线灯可有效杀灭细菌、病毒等微生物，保障食品安全和人员健康。FX-803M紫外线灯ONL-12000B

i线步进式光刻机NSR-SF150,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2。半导体回路形成用光源紫外线灯13KW

扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。d. 高精度双面：主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。适用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。半导体回路形成用光源紫外线灯13KW